Nanolixa: Lixa mais fina do mundo tem granulometria de 1 bilhão

Redação do Site Inovação Tecnológica - 26/02/2026

É a lixa mais fina (com menor granulometria) do mundo.
[Imagem: Sukkyung Kang et al. - 10.1007/s42114-025-01608-3]

Lixa mais fina do mundo

Salvo algumas técnicas de estiramento, como o silício expandido, toda a microeletrônica, bem como a fotônica e demais tecnologias de computação, dependem de superfícies muito, muito lisas - polidas ao extremo, por assim dizer.

Polir as coisas exige lixas, e lixar a ponto de reduzir as rugosidades de uma superfície a poucos átomos de espessura exige lixas cada vez mais finas e mais homogêneas.

Sukkyung Kang e colegas do Instituto Avançado de Ciência e Tecnologia da Coreia (KAIST) levaram agora essa tecnologia de acabamento ao extremo, colocando definitivamente o conceito de lixa no âmbito da nanotecnologia.

A nanolixa atinge uma densidade abrasiva aproximadamente 500.000 vezes maior do que a da lixa comercial mais fina disponível.

A precisão de desbaste de uma lixa é expressa em termos de densidade abrasiva, ou número de grão, que indica a densidade com que as partículas abrasivas estão dispostas em sua superfície. Enquanto as lixas comuns variam tipicamente de 40 a 3.000 grãos, a nanolixa ultrapassa 1.000.000.000 de grãos.

Graças a essa estrutura extremamente densa, as superfícies podem ser processadas com precisão de até alguns nanômetros, o equivalente à espessura de apenas alguns átomos.

A aplicação imediata da nanolixa será na indústria de semicondutores.
[Imagem: Sukkyung Kang et al. - 10.1007/s42114-025-01608-3]

Superfície mais lisa do mundo

Embora as lixas sejam uma ferramenta comum para alisar superfícies por fricção, sua aplicação em áreas como a de semicondutores, onde é necessário um processamento de superfície extremamente preciso, tem sido difícil. Essa limitação surge porque a lixa convencional é fabricada com partículas abrasivas fixadas por adesivos, o que dificulta a fixação uniforme de partículas extremamente finas.

Kang desenvolveu uma nanolixa que substitui os elementos abrasivos tradicionais por nanotubos de carbono, nanoestruturas dezenas de milhares de vezes mais finas do que um fio de cabelo humano, mas extremamente resistentes.

Ao alinhar nanotubos de carbono verticalmente, fixá-los dentro de poliuretano e expô-los parcialmente na superfície, o pesquisador criou uma lixa em escala nanométrica que suprime estruturalmente o desprendimento abrasivo, eliminando preocupações com danos à superfície e mantendo um desempenho estável mesmo após uso repetido.

As nanolixas de nanotubos viabilizaram um processamento de superfície mais preciso do que os processos de fabricação de semicondutores estado da arte, além de reduzir os impactos ambientais gerados durante a fabricação, apresentando uma nova técnica de planarização de materiais que deverá ter amplos usos.

"Este é um estudo original que demonstra que o conceito cotidiano de lixa pode ser estendido à nanoescala e aplicado à fabricação de semicondutores ultrafinos," disse o professor Sanha Kim. "Esperamos que essa tecnologia leve não apenas a um melhor desempenho dos semicondutores, mas também a processos de fabricação ecologicamente corretos."

Mais tópicos